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睿德永新硅粉过滤烧结膜,常德气体分离硅粉过滤金属粉末烧结膜组件

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过滤精度
精度: 1um~~20um ;
优点
无介质脱落和污物卸载;
高低温适应性和化学稳定性;
非对称结构,不易堵塞,易反吹;
金属材质整体烧结,高强度且耐氧化、耐腐蚀、械强度高;
孔隙率高,过滤通量大;
耐差压高,滤芯内外压差可以达到10KG。

直径 mm 40、50、60、80
长度 mm 250、500、750、1000、1500、2000
过滤精度 0.1、0.5、1、2、3、5、7、10、15、20
连接方式 螺纹(M20、M30、NPT1〃等); 222、226;
法兰型、平面型;

微孔金属膜投入运行后,系统压差随着过滤逐渐升高。当压差上升到一定值时,系统需要再生。在再生循环中,微孔金属膜的过滤压差可分为三个不同的阶段。阶段是过滤的初始阶段,也是滤饼形成期,时间较短,约为15小时。这时微孔金属膜表面的滤饼迅速形成,压差随时间迅速上升。滤饼完全形成后,压力逐渐趋于稳定。第二阶段是过滤的中间阶段。此时由于金属微孔膜表面已经形成滤饼,压力的变化直接关系到过滤粉尘的性能。此时对于多晶硅来说,过滤后的尘粒比较硬,滤饼不易压缩。此时,随着滤饼的增厚,过滤压差逐渐增大。第三阶段是过滤的后期。此时由于压差大,作用在滤饼上的压力也随之增加。当达到一定值时,滤饼的尘粒对孔隙产生的压力会使孔隙减少,于是压力迅速上升,直至物料表面的孔隙被堵塞。此时,金属微孔膜需要反吹再生。因此,在工业生产和应用过程中,为了便于控制系统的稳定,需要在过滤的中间阶段对金属微孔膜进行再生。将过滤精度为1微米的金属微孔膜应用于多晶硅合成气工艺。结果表明,合成气经金属微孔膜过滤后粉尘含量可降至40毫克/立方厘米,对大于1微米的粉尘颗粒有显著的截留效果。再生后,金属微孔膜过滤系统可以在小于25KPa的过滤压差下运行。

多晶硅生产中遇到的污染物和杂质颗粒;
  1.未完全反应的硅粉颗粒;
  2.循环液体带来的管道中的杂质;
3.进料带入的固体粉尘和杂质;
  4.合成反应产生的固体杂质;这些颗粒杂质是影响生产稳定性和换热效率的主要原因。永新科技的粉末烧结过滤分离设备不仅保护了生产设备的工艺安全,还提高了产品质量和产量。
  尾气过滤应用于多晶硅生产的每一个工艺阶段,在多晶硅生产中起着重要的作用,在目前行业的低水平运行中,这对降低多晶硅产品的成本重要:
a.废气和废液站的烟气过滤;
b .还原炉尾气分离;
c .加氢炉尾气分离;
d、过滤硅粉。

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